Shiseido Senka Perfect Whip Gentle Facial Cleansing Foam - 120 g

Ansigtsrensende skum , der skaber et tykt, cremet skum. Mikroskumteknologi fjerner effektivt urenheder og overskydende talg, og beskytter huden mod slid. Formlen med hyaluronsyre og silke bevarer fugten under rensningen.

Den koreanske kunst at rense

Senka Perfect Whip er et ikonisk ansigtsrensende skum fra Shiseido. Dens unikke formel skaber et tykt, cremet skum, der ligner w Hipp ed creme, som omslutter huden blidt under rensningen. Mikroskumteknologi fjerner effektivt urenheder, overskydende talg og døde celler uden at forstyrre den naturlige beskyttende barriere .

Formlen er beriget med fugtgivende ingredienser, og efterlader huden frisk, glat og behagelig efter rensningen, uden at stramme. Den delikate blomsterduft forvandler den daglige rensning til en behagelig hudplejeoplevelse .

Ingredienser, du vil elske:

Natriumhyaluronat - binder vand i epidermis, og forhindrer udtørring under rensningen.

Acetyleret hyaluronsyre – 'super HA' med øget vandbindende evne.

Sericin – silkeprotein, der fugter og udglatter huden.

Hydrolyseret silke – giver huden en silkeagtig glathed.

Glycerin – fugter og blødgør huden.

Bivoks - beskytter og plejer under rensningen.

Anvendelse:

Til alle hudtyper, især normal, kombineret og fedtet hud. Ideel til daglig rensning om morgenen og om aftenen. Takket være den milde formel er den også velegnet til følsom hud.

Anvendelse:

Fugt ansigtet med vand. Tryk en lille mængde produkt ud på hænderne og skum det op med vand, indtil der dannes et tykt, cremet skum. Påfør skummet på dit ansigt og massér det blidt ind med cirkulære bevægelser, undgå øjenområdet. Skyl grundigt med lunkent vand.

Ingredienser:

Vand, Stearinsyre, Myristinsyre, PEG-8, Kaliumhydroxid, Laurinsyre, Glycerin, DPG, Bivoks, Polyquaternium-7, PEG-90M, Natriumhyaluronat, Sericin, Acetylhyaluronsyre Na, Hydrolyseret silke, EDTA-3Na, Talkum, Natriummetabisulfit, Natriummetafosfat, Aluminiumhydroxid, Citronsyre, Kaliumsorbat, Silica, BHT, Natriumbenzoat, Duft, Titandioxid.