Esfolio Pure Skin Aloe Essence Mask – 10 ark

Esfolio Pure Skin Aloe Essence Mask er en koreansk ansigtsmaske, der er gennemvædet med aloe vera-essens og hyaluronsyre, som intensivt fugter og beroliger følsom hud. Det tætsiddende ark tilpasser sig ansigtets konturer, og omslutter huden med et lag af plantebaserede næringsstoffer.

Om produktet

esfolio er et sydkoreansk hudplejemærke, der fremstiller kosmetik baseret på planteekstrakter. Pure Skin Aloe Essence Mask er en ansigtsmaske, der er gennemvædet med Aloe barbadensis-essens, som omslutter huden med et lag af dyb fugt og næring.

Masken tilpasser sig tæt til ansigtets konturer, hvilket gør det muligt for -essensen at trænge effektivt ind i huden. Formlen er beriget med hyaluronsyre (natriumhyaluronat) samt ginseng- og portulakekstrakter, der hjælper med at berolige følsom hud.

Vigtigste ingredienser

• Aloe vera-ekstrakt (Aloe barbadensis) - fugter og lindrer irritation
• Hyaluronsyre (Natriumhyaluronat) - binder fugt i huden og forbedrer fugtbalancen
• Ginseng-ekstrakt (Panax ginseng) - nærer og revitaliserer huden
• Portulakekstrakt (Portulaca oleracea) - beroliger og forfrisker følsom hud

Hvem er den til?

Denne maske anbefales til følsom hud, der har brug for intensiv fugt og beroligelse. Den kan bruges som en del af den daglige hudplejerutine eller som et hurtigt hudplejeritual efter en krævende dag.

Sådan bruges den

1. Rens ansigtet, og påfør masken, så den følger ansigtets konturer.
2. Lad den sidde i 15-20 minutter.
3. Fjern masken, og dup den resterende essens forsigtigt ind i huden, indtil den er fuldt absorberet.

Ingredienser (INCI)

Vand, Glycerin, Denatureret alkohol., Aloe Barbadensis (Aloe Vera) Bladekstrakt, Portulaca Oleracea (Grøn portulak) Ekstrakt, Panax Ginseng (Ginseng) Rodekstrakt, Chaenomeles Sinensis (Kinesisk kvæde) frugtekstrakt, Natriumhyaluronat, Butylenglycol, PEG/PPG-17/6-copolymer, Carbomer, Xanthangummi, PEG-60 Hydrogeneret ricinusolie, Dinatrium-EDTA, Propylenglycol, Betain, Ethylhexylglycerin, Triethanolamin, Phenoxyethanol, Methylparaben, Duftstoffer.